ニュースリリース - 2009年8月26日

ルネサス テクノロジ、45nm SoCの製造に向けシノプシスのOPCソリューション Proteusを採用

Proteusの拡張性の高いOPCエンジンが最良の所有運用コストを実現

2009年8月25日 カリフォルニア州マウンテンビュー発 - 半導体設計・製造ツールならびにIPの世界的リーダーであるシノプシス(Synopsys, Inc.、Nasdaq上場コード:SNPS)は、株式会社ルネサス テクノロジ(以下、ルネサス)が、シノプシスの45nm製造向け光近接効果補正(OPC)ソリューション Proteusを採用したと発表した。45nm以降の半導体製造では、デザインの複雑度とレイヤの増加によりOPCの重要性が高まっており、OPCソリューション・プロバイダの選択にあたっては、そのソリューションによる開発期間短縮効果と所有運用コストが重要な判断基準となる。Proteusは、CPUリソースの数に応じた運用拡張性の高さから、業界で最もコスト効率の高いソリューションとなっている。

株式会社ルネサス テクノロジ 設計技術統括部 DFM・ディジタルEDA技術開発部 部長 杉原仁氏は次のように語っている。「当社では、厳しい開発スケジュールで、多数の45nm製品をテープアウトしなければならないという課題に直面しています。今回採用したProteusは、当社が設定した技術水準/開発スケジュール/コストの要件を 満たしたOPCツールであり、当社マイコンならびにシステム・ソリューションでの競争力強化に貢献します」

Proteusは、数百ものプロセッサコアを用いた分散処理でツール実行ができ、使用可能なCPUリソースの数に応じて処理速度が直線的に向上するため、設計者はツール処理時間と運用コストのバランスを考慮して開発を進めることができる。

また、Proteusは、2種類の光学モデル-Field base(dense pixel-based)とFlash base(sparse-sampling)に対応している。密度が高く階層の少ないレイヤには、Field baseを用いると処理速度を高めることができ、密度が低く階層を持ったレイヤには、Flash baseが向いている。Proteusでは、それぞれのモデルを任意のレイヤに適用することができるため、設計者はこれらを用いて処理時間とコストのバランスを考慮し効率的にシステムを運用できる。ProGenは, Proteusの高度のカスタマイズ機能により、Field baseとFlash baseの両方に対応する高精度の単一モデルを生成し、適用することができる。

シノプシス シリコン・エンジニアリング・グループ 上級副社長兼ジェネラルマネージャー Howard Koは、次のように述べている。「ルネサス様は、最先端のデザインに注力されている半導体システム・ソリューションのリーディング・カンパニーであり、開発期間とコスト削減の鍵を握るOPCソリューションには厳しい基準を持っておられます。ルネサス様のOPCソリューションにProteusが選ばれたという事実は、当社のテクノロジが最先端のデザインに対処できる最善のソリューションであることの何よりの証明です」

シノプシスについて
Synopsys, Inc. は、電子設計自動化(EDA)ソリューションの世界的リーダーであり、半導体の設計ならびに製造に用いられる各種のツール、設計資産(IP)、サービスを全世界のエレクトロニクス関連企業に提供している。システムレベルHW/SW設計検証、IP 、HWインプリメント、HW検証、HW製造、FPGA設計の各ソリューションで構成されるシノプシスの包括的な統合環境により、顧客企業が設計や製造段階で直面している重要な課題、すなわち消費電力や歩留まりの管理、システム設計段階からシリコン製造段階までを網羅する総合検証、開発期間の短縮といった課題を克服することが可能になる。各種テクノロジを駆使したこれらのソリューションを活用することにより、顧客企業は、開発コストや開発リスクを削減しつつ最高の製品を迅速に市場投入することが可能となり、競争力を高めることができる。カリフォルニア州マウンテンビューに本社を置き、事業所は北米、ヨーロッパ、日本、アジア、インドなど70ヶ所。詳細な情報は、http://www.synopsys.co.jpより入手可能。

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日本シノプシス合同会社 フィールド・マーケティング・グループ 藤井 浩充
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