マスク合成

マスク合成

最先端のリソグラフィ・ソリューション

マスク合成は、開発およびバッチのユース・モデルの両方のためのリソグラフィ・ツールで構成されています。Proteusのバッチ・ツールは、フルチップの光学近接効果補正(OPC)、インバース・リソ技術(ILT)、および修正後のICレイアウト・パターンのプロセス・チェックと解析のための包括的で強力な環境を提供します。

開発ユース・モデル用には、ProteusおよびSentaurus Lithographyは、緊密に統合され、製品化期間を短縮する最高の精度と予測性を提供します。シノプシスのマスク合成ツールは、20年近く業界で検証され、最先端のIDMやファウンダリで導入されているツールです。