シノプシスのProteus

Proteus

フルチップのマスク合成

Proteusは、近接効果補正用のモデル構築、そのモデルを用いたフルチップでの近接効果補正、および補正前後のICレイアウト・パターン上の近接効果解析などを実施するための、包括的で高性能な環境を提供します。Proteusマスク合成製品は最先端のIDMおよびファウンドリに最適なツールとして長い実績があります。

Proteusパイプライン・テクノロジは、CPU使用率を最大化した、完全にコンカレントなテープアウト・フローを実現します。これは連続的な製造フローからの大きな飛躍です。連続的な製造フローでは、後工程を開始するにあたって、ポストOPC(光近接効果補正)の完全なデータベースが必要とされていました。Proteusは、フィールドベースのシミュレーションとフラッシュベースのシミュレーションの長所を兼ね備えたデュアル・ドメインのシミュレーション・エンジンを採用し、設計パターン密度の疎密に関わらず、いずれの設計においても、極めて高精度なOPC結果と開発期間の短縮を実現します。Proteusの処理のプログラム化とアプリケーションのモジュール化により、最良の柔軟性と、お客様の大切なIPの確実な保護を両立します。

主な特長

  • 実績ある性能と優れたQoR
  • 完全にパイプライン化されたテープアウトフローにより、高価なハードウェアリソースを効率的に活用
  • 高精度で操作性に優れた、柔軟なモデリング環境
  • 実績ある包括的なRETアプリケーションスイート
  • プロセス・ウィンドウ・リソグラフィ検証を用いたProteus LRC
  • Proteus製造ツールに組み込まれたSentaurus Lithographyの精密なシミュレーション・インターフェイス
  • 最適化された汎用ハードウェアを使用することで総所有コストを最小化
  • 独自の方法で製造情報を設計にリンクするコアテクノロジ
Proteusによるフルチップのマスク合成スイート

Proteusによるフルチップのマスク合成スイート