ニュースリリース - 2007年6月13日

シノプシスと日立ハイテクノロジーズ -- OPCモデリングのスピード、精度、予測性を改善するソリューションを提供

両社のテクノロジをリンクするDFMインターフェイスにより、顧客のオーナーシップ・コストを削減

2007年6月12日 カリフォルニア州マウンテンビューおよび東京発 - 半導体設計ツールの世界的リーダーであるシノプシス（Synopsys, Inc.、Nasdaq上場コード:SNPS）と、ハイテク技術を駆使した半導体製造装置の開発企業大手の株式会社日立ハイテクノロジーズ（以下、日立ハイテクノロジーズ）は本日、日立ハイテクノロジーズの設計データ応用計測システム DesignGaugeと、シノプシスの光学近接効果補正（OPC）ソリューション Proteusとの間でシームレスなリンクを取るインターフェイスを共同開発したと発表した。このDFM（Design for Manufacturing）インターフェイスは、製造性を考慮した測定データをデザインに取り込む目的で開発されており、これにより両社共通の顧客企業では、最先端の45nm以降のプロセス・テクノロジでのOPCモデルをより迅速に、より高精度に、そしてより高い予測性の元に開発できるようになる。Proteusユーザーは、OPCモデル開発の予測性を高めることができるだけでなく、モデル構築にかかる期間を短縮できるようになる。

プロセスのジオメトリが45nm以下へと微細化を続けて行くのに伴い、プロセス・ウィンドウ全般にわたって厳格なCD（Critical Dimension=微小寸法）エラー予測と合致した高精度なOPCモデルを提供できるかどうかが、歩留まり目標を満たすマスクの生成にかかる期間を削減するための重要な要素となる。プロセス・ウィンドウ・モデルは、広範囲にわたって発生するプロセス・バリエーションと複雑な2次元構造に対応していなければならない。このことは、最先端の半導体を製造するために複数のRET（Resolution Enhancement Technology）を用いるようになっている現在、さらに重要な鍵となる。

測長SEM（CD-SEM：微小寸法測定走査型電子顕微鏡）を補完する応用システムDesignGaugeとのアルゴリズム・リンクを自動化することにより、ProteusでOPCモデルを作成するための前処理に必要な詳細データを入手できる。これによりProteusユーザーは、プロセス・ウィンドウ全体を通じてプロセス・バリエーションに対応するために必要となる測定データを広範囲にわたってシームレスに入手できるようになるのである。この新機能は、Proteusの最新バージョンで既に提供を開始している。

株式会社日立ハイテクノロジーズ 半導体製造装置営業統括本部 事業戦略本部 本部長 杉本有俊は次のように述べている。「シノプシス社のようなDFMソリューションの世界的なリーディング･カンパニーとの協業には、非常に大きな価値があります。お客様に先進のOPCモデリング・パフォーマンスをご提供できるようになるからです。DesignGaugeがご提供する当社独自のCD-SEMデータをOPCツールのProteusで取り込むことにより、OPCモデルの精度とモデリング結果の予測性は劇的に向上します」

シノプシス　DFMマーケティング担当副社長のAnantha Sethuramanは次のように述べている。「ProteusのOPCは、毎年機能改善を重ね、7世代のプロセス・テクノロジ・ノードにわたる10年もの間ご愛用いただいてきました。日立ハイテクノロジーズ社の最先端技術を駆使した測定情報をProteusのマスク・シンセシス・データに取り込むことにより、45nm以降のプロセス・ノードでのOPCモデルの精度とモデリング結果の予測性が飛躍的に高まります。その結果、お客様は、より高度なOPCモデルを生成でき、歩留まり目標を達成でき、最終的にはオーナーシップ・コスト全体を削減できます」

日立ハイテクノロジーズについて
株式会社日立ハイテクノロジーズは、東京に本社を置き、デバイス製造装置、ライフサイエンス関連装置、ITソリューション、電子部品、先端産業部材など多岐にわたる分野で業務を展開している。2006年度の連結売上高は9,516億円である。詳細な情報は

http://www.hitachi-hitec.com より入手可能。