ニュースリリース - 2005年3月2日

中国Grace社がGDSⅡからマスク製造までの開発期間削減にシノプシスのDFMツール群を標準採用


シノプシスDFMツール群の分散処理機能と拡張性の高いアーキテクチャにより品質を維持しつつ歩留まり確保までの期間を短縮

2005年3月1日、カリフォルニア州ならびに中華人民共和国 上海発 - 半導体設計ツールの世界的リーダーであるシノプシス(Synopsys, Inc.、Nasdaq上場コード名:SNPS)と、中国・上海を拠点に急成長中のICファンダリであるGrace半導体製造(上海宏力半導体製造有限公司)は本日、Grace半導体製造がシノプシスのDFMツール群を採用していることを発表した。Grace半導体製造は、シノプシスのOPCツールProteusならびにリソグラフィー検証ツールSiVLを用いて、マスク製造完了までの開発期間短縮と製造歩留まり向上を実現している。

Grace半導体製造のTDシニア・ディレクター Hao Fanは次のように語っている。「弊社がシノプシス社の最先端のDFMツール群の採用を決めたのは、それらのツールが弊社と弊社のお客様にとって、IC製造工程を改善するための最も拡張性の高いかつフレキシブルなソリューションだからです。シノプシス社のDFMツール群の分散処理機能により、我々のOPC処理効率は飛躍的に向上しました。これにより、我々は設計データを正確にシリコン上に実現させつつ、開発期間を大幅に削減することができたのです。」

Grace半導体製造は、設計済みICの製造性向上を実現するためにシノプシスの先進のDFMツール群を採用。これらのツール群が提供する分散処理機能により、Grace半導体製造は顧客企業に対し「OPC~リソグラフィー検証~マスクデータ生成」を極めて短期間で提供できるようになった。先端のICデザインは、より高速な動作とより多くの機能の実現を追求しているため、マスク生成工程に渡されるGDSⅡファイルのサイズが巨大化し、その後のマスク生成に用いられるDFMツール実行時間は増加の一途をたどっている。シノプシスのOPCツールProteusとリソグラフィ検証ツールSiVLでは、一度に数百ものCPU上で分散処理を実行できるため、ツールの実行時間を劇的に削減できる。

シノプシス シリコン・エンジニアリング・グループ マーケティング担当副社長のEdmund Changは次のように述べている。「弊社のDFMツール群がGrace社の標準ツールとして採用されたという事実は、シノプシスのDFM分野でのリーダーシップを裏付けるものです。シノプシスは、Grace社のようなIC製造企業にクラス最高のDFMソリューションを提供し、最先端ICデザインの製造可能性確保と最短期間での製造を実現する事をお約束しています。」

シノプシスのDFMソリューションについて
シノプシスは、RTL設計からシリコン製造までサポートできる業界で最も包括的なソリューションを提供している。シノプシスのDFMツール・ファミリーは、歩留まり向上、製造性確保といった重要な課題を解決するソフトウェア製品群である。シノプシスのDFMツール・ファミリーは、OPCツールのProteus、マスクデータ・プレパレーションに用いるCATS、リソグラフィー検証ツールのSiVL、マスク検証ツールのi-Virtual Stepper、プロセス・デバイス・シミュレーションのためのTCADツール群(Taurusファミリーならびに旧ISEツール・ファミリー)から構成される。シノプシスは、90nm以降の設計が製造上の要件を確実に満たせるよう、業界を代表する設計インプリメント・プラットフォームであるGalaxyにその卓越したDFM技術を活用している。シノプシスのDFMツール・ファミリーは、歩留まり確保が困難かつ高付加価値の130nm以降のICを実現する世界でもえり抜きのソリューションである。Proteus は、180nm以降のマイクロプロセッサ/FPGA/画像処理チップの80%、DRAMの50%、携帯機器向けベースバンドICの75%の製造に用いられている。また、フォトマスク作成の80%以上はCATSを用いて行われている。

Grace半導体製造について
Grace半導体製造(上海宏力半導体製造有限公司) は、ICの受託製造に特化したICファウンダリである。Grace半導体製造は、国内外の顧客に対し高品質かつ最先端のプロセス・テクノロジを提供し、中国におけるファンダリのリーディングカンパニーを目指している。上海市PudongのZhangjiangハイテクパーク内に16億3千万ドルを投じて24万m2の拠点を展開。同所内には2つのファブが建設されており、そのうち一つは300mmウェハーに対応している。現在、ファブ1A(200mmウェハー対応)はフル稼動中で、昨年末の製造実績は既に月間製造キャパシティの2万7千枚に到達している。詳細な情報は、http://www.gsmcthw.com/ より入手可能。

シノプシスについて
Synopsys, Inc. は、半導体設計向け電子設計自動化ソフトウェア(EDAツール)の世界的リーダーである。複雑なシステムオンチップ開発を実現する、最先端技術を用いたIC設計プラットフォームおよび検証プラットフォームを世界中のエレクトロニクス市場向けに提供している。また、顧客の設計プロセスを簡素化し、その製品開発期間を短縮するために、設計資産(IP)やデザイン・コンサルティング・サービスを提供している。カリフォルニア州マウンテンビューに本社を置き、事業所は北米、ヨーロッパ、日本、アジアなど60ヶ所。詳細な情報は、http://www.synopsys.co.jp より入手可能。

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SynopsysおよびSiVL は、Synopsys, Inc.の登録商標です。
CATS、Galaxy、iVirtual StepperおよびTaurusは、Synopsys, Inc.の商標です。
その他の商標や登録商標は、それぞれの所有者の知的財産です。

<お問い合わせ先>

日本シノプシス株式会社 フィールド・マーケティング・グループ 藤井 浩充
TEL: 03-5746-1780 FAX: 03-5746-1781