Передовые технологические процессы, такие как FinFET, создают значительные сложности при проектировании и производстве, которые влияют на некоторые инструменты реализации. В частности, это связано со сложными требованиями к многомерной литографии:
- Размещение и трассировка с учетом правил для обеспечения возможности правильного и эффективного окрашивания масок.
- Встроенная Физическая проверка на протяжении всего маршрута проектирования с целью сокращения трудоемких и неопределенных итераций.
- Точный анализ более высоких уровней экстракции и временных задержек для обеспечения допусков при небольших вариациях производственного процесса.
Передовые технологические процессы позволят проектам работать на рабочей частоте в мульти-ГГц+. Для достижения этой цели необходимо, чтобы инструменты с высокой степенью предсказуемости выполняли моделирование, руководство и анализ на протяжении всего процесса проектирования. Требования к размерам и производительности для проектов нового поколения требуют более высокой производительности, улучшенной многоядерной обработки для более быстрого выполнения, и интегрированной среды проектирования для максимизации производительности проектирования. Комплексное, сертифицированное для фабрик передовое решение от Synopsys обеспечивает следующие возможности, которые помогают проектировщикам быстрее выводить продукцию на рынок:
- Исследование раннего RTL и анализ осуществимости реализации блоков.
- Физическое руководство от синтеза до размещения и трассировки.
- Цифровая и заказная совместная разработка для расширенных требований к проектам со смешанным сигналом.
- Встроенная в проектирование физическая верификация с автоматическим обнаружением и исправлением ошибок согласно сложным правилам проектирования.
- Тесно связанные возможности экстракции и нормоконтроля с инструментами реализации.
- Возможности руководства для физического ЕСО и исправления утечек из анализа нормоконтроля.