マスク・シンセシス 

製造のイノベーションを可能に 

マスク・シンセシスは、開発とバッチモードの利用法をサポートするリソグラフィ・ツール群でできています。Proteusのバッチ・ツールは、フルチップの近接効果修正(OPC)、インバース・リソ技術(ILT)、プロセスチェック、補正後ICレイアウト・パターンの解析を目的とした包括的で強力な環境を提供します。開発の利用モデルについては、ProteusとSentaurus Lithographyが緊密に統合されており、最高度の精度と予測性を提供して、最短の設計期間をもたらします。シノプシスのマスク・シンセシス・ツール群は、20年にわたり業界で実証されてきており、業界をリードするIDMやファウンドリで選択されています。

  • ツール
 
  • Proteus
  • フルチップのマスク合成製品(OPC、MBAF、PMB) more

 
Proteusは、パイプラインテクノロジを利用した包括的なマスク合成ツール群により、設計からマスク製造までのフローの総所有コストを最小化します。
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高度なOPC(近接効果補正)
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Proteus LRCは、プロセス・ウィンドウ全体のホットスポットを高速かつ高精度に検出し、Proteusパイプライン・テクノロジでフルチップのマスク検証を行うシノプシスの次世代OPC検証ツールです
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Proteus MetroKitは、計測ツールとのインターフェイス部分のプロセスを効率化および自動化するように設計されたツールセットで、ツールのダウンタイムを削減してエンジニアリング効率を最大化します。
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Proteus WorkBenchは、フルチップでの光学近接効果補正、および補正済み・未補正のICレイアウト・パターンの近接効果を解析するための、モデル構築、補正レシピの調整を効率化する単一ツール環境を提供します。
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Sentaurus Lithographyは半導体デバイスの製造プロセスの開発と最適化のための、光学、液浸、EUV、電子ビームの各リソグラフィでの幅広いアプリケーションを網羅する高度なモデリングを行います。
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IC WorkBench Plus(ICWB+)は、GDSII/OASISの表示と編集機能を備え、リソグラフィを高速にシミュレーションおよび解析する、高性能な階層型レイアウト表示および解析ツールです。
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小規模のIPブロックからフルチップのデータベースまで、GDSIIおよびOASIS形式のレイアウトを表示および編集する機能を備えた、高性能な階層型レイアウト表示および解析ツールです。
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