Proteus

全芯片光罩合成

Proteus 可为执行全芯片邻近效应修正提供全面的强大环境,从而为修正构建模型并对已修正和未修正集成电路版图图形的邻近效应加以分析。Proteus 光罩合成产品生产工艺历经十数年考验,是顶尖 IDM 和晶圆厂的首选工具。

Proteus 管道技术提供完全并行的流片流程,可实现最大程度的 CPU 使用率。该技术与串行制造流程大有不同,在串行制造流程中,必须获得完整的光学邻近效应修正 (OPC) 后数据库,才可以启动后续应用。Proteus 使用双领域仿真引擎,将场仿真与域仿真二者技术之长集于一身,为密集设计和稀疏设计提供最准确的 OPC 结果和最快的周转时间。Proteus 的可编程性和模块化应用不仅可提供最佳的灵活性,同时可保护宝贵的客户 IP 不受侵害。

优势

  • 经过生产验证的性能和高质结果
  • 全管道化的流片流程,有效利用昂贵的硬件资源
  • 最精确、简便、灵活的建模环境
  • 历经生产验证的综合性 RET 应用套件
  • Proteus LRC 通过工艺窗口光刻验证
  • Proteus 制造工具内置 Sentaurus 光刻工艺严格仿真接口
  • 通过使用优化的通用硬件,实现最低购置成本
  • 独特的核心技术将制造信息与设计相连接
Proteus 全芯片光罩合成套件

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