Sentaurus 光刻工艺

Sentaurus 光刻工艺

光刻工艺的预测建模

Sentaurus 光刻是用于半导体器件制造工艺开发和优化的先进光刻仿真工艺。它涵盖近距离打印、光学、浸没、极端紫外 (EUV) 和电子束 (e-beam) 等为数众多的光刻应用领域。如果考虑光罩和衬底光刻对于光刻胶图形的影响,则可透彻分析曝光工具在成像系统中可能限制工艺的影响。将 Sentaurus 光刻工艺和 Sentaurus Topography 相结合,可以对双重图形等复杂工艺进行无缝建模。在设计和光罩合成领域将 Sentaurus 光刻和其他 Synopsys 工具相衔接,加快了光学邻近修正 (OPC) 模型的生成,并有助于尽量降低工艺敏感度。

优势

  • 预测工艺变动对于光刻性能的影响
  • 解决多重图形等复杂的工艺集成技术问题
  • 通过支持近距离打印、光学投影、EUV 和电子束光刻,帮助现有和未来技术节点寻找光刻策略路径
  • 实现与光罩合成工具的集成,帮助制造应用领域降低成本并提高良率