AI驱动的设计应用
硅验证和生产验证的FinFET解决方案
新思科技Design Platfom (设计平台)实现了 90% 的量产 FinFET 设计
新思科技(Synopsys Inc.)拥有业内先进的工艺节点提供领先解决方案的经验证的成功记录。新思科技与集成器件制造商 (IDM)、晶圆厂和学术界携手合作,推出了业内超全面高效的解决方案。全世界大多数 FinFET 器件都是采用新思科技TCAD 工具设计而成的;新思科技拥有种类非常广泛并且经过硅验证的 FinFET IP,而 90% 以上的领先量产的片上系统都是采用 Synopsys 设计平台设计而成的。新思科技的新式 Custom Compiler™ 视觉辅助定制布局解决方案经过调整,能够完成快速实施,将定制设计任务所需的时间从几天缩短到几小时。
FinFET之父胡正明教授采访
先进几何尺寸节点会出现影响一些实施工具的重大设计和制造挑战。尤其是复杂的双重图形光刻工艺要求,其中涉及:
先进几何尺寸节点使设计能够在几个 GHz+ 操作频率下运行。为了实现这一点,应使用在整个设计流程中具有高度可预见性的工具处理改进的建模、指导和分析。下一代设计的尺寸和性能要求需要更高级别的容量、增强的多核处理(以实现更短的运行时间)以及集成的设计环境(以更大限度提高设计效率)。新思科技经过晶圆厂认证的全面的先进几何尺寸解决方案提供了下列功能,帮助设计得以更快地推向市场:
新思科技正在与领先的晶圆厂、联营企业和生态系统合作伙伴积极协作,以解决先进的 FinFET 工艺技术面临的巨大挑战。在超短时间内打造出经过晶圆厂认证的解决方案。