强大的数字算法可仿真不同半导体材料中的注入、扩散、杂质激活、刻蚀、淀积、氧化和外延生长等工艺步骤。 各个工艺步骤中的环境气体组分、温度、压力等工艺条件是典型的输入条件。最终产生的是可用于器件电学仿真的 2D 或 3D 器件结构。Synopsys 拥有四个工艺仿真工具:Sentaurus Process;Taurus TSUPREM-4;Sentaurus Lithography;和 Sentaurus Topography。
Synopsys 收购 QuantumWise,加强设计技术协同优化解决方案
Synopsys 和 IIT Bombay 宣布发布 NBTI 先进晶体管可靠性仿真 Sentaurus TCAD 模型
一站式收录您寻找的全部 FinFET 信息
NEW 最新版 TCAD 新闻通讯
Simpleware 产品线:3D 图像处理、分析与模型生成
更多资源