Sentaurus Process  

先进的 1D、2D 和 3D 工艺仿真器 

概览
Sentaurus Process 是一种先进的 1D、2D 和 3D 工艺仿真器,可开发并优化硅半导体工艺技术。 这是新一代的工艺仿真器,可应对当前以及未来工艺技术面临的挑战。 Sentaurus Process 配备了一套先进的工艺模型,包括经过设备供应商提供的数据校准的默认参数,可提供对从纳米级 CMOS 到大尺寸高压器件的广泛技术进行预测性仿真的模拟环境。 Sentaurus Process 是 TCAD 内核产品综合套件中的一部分,TCAD 系列产品可用于多维工艺、器件和系统仿真,内含功能强大的用户界面。

优势
  • 利用基于物理原理的全面工艺建模能力,对广泛的技术进行快速的原型设计、开发和优化
  • 通过优化器件的热应力和机械应力同时考虑到工艺过程中的应力变化过程,用以提高器件的性能
  • 通过自洽、多维的建模能力,提供对高级物理现象深入了解的能力