Proteus Workbench 

用于 OPC 开发和优化的 Cockpit 工具 

概览
通过 Proteus WorkBench (PWB),Synopsys 提供了一个单一环境,可综合 ProGen 模型构建,Proteus OPC 流程生成及优化、版图浏览、编辑、验证及其他分辨率提高技术 (RET) 功能于一体。 PWB 完美融合了易用性和高效率,因此建立可投入生产的光罩综合流程的周转时间较快。

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优势
  • 通过自动化模型校准、调整和验证,节省工程时间
  • 为不匹配的全芯片 OPC 和 RET 性能优化流程参数
  • 高速版图浏览和光刻分析
  • 拥有无缝接口,可连接到 Synopsys 的计量工具箱 (Proteus Metrokit) 及严格的光刻工艺仿真套件 (Sentaurus Lithography)

PWB 提供一系列强大的工具,允许工程师更进一步提高基于 Proteus 的光罩综合流程的结果质量。 只要轻点鼠标,所选应用的特定 GUI 元素即可载入,为特定工程任务提供定制的工作环境。 高级用户可使用多个工具来解决更为复杂的问题。

PWB 完全可编程。用户可修改窗口、菜单和工具栏,也可添加他们自己的宏命令和脚本来扩展功能,将 PWB 转换为适用于个人 OPC 任务的独特环境。

下图展示了 PWB 中可用的各种不同模块,以及其他 Synopsys 产品的链接,这些产品极大地扩展了该工具的应用空间。

图 2: Proteus WorkBench - 模块结构
图 2: Proteus WorkBench - 模块结构

版图工具
即使只有最基本的简单配置, PWB 也是一款非常强大的层次式版图浏览和分析工具。它基于 Synopsys 的 IC WorkBench Plus 开发而成。 PWB 可加载大型的 GDSII 和 OASIS 文件,其快速缩放和平移功能可以使用户轻松进行探索,也允许用户交互操作已有的版图模式或创建新的版图模式。 可应用高精度 ProGen 模型(所有 Synopsys 制造工具所使用的模型),以快速确定所选版图剪辑的光刻轮廓或光强度分布图像。

测试向量产生器 (TPG) 是一种专为光刻工程师和 OPC 工程师设计的基于参数的向量产生器。

ProGen 模型构建器 (PMB)
ProGen 模型是紧凑的经验模型,可以反映光刻工艺的性能。 模型参数由调校的实验数据决定。 PMB 可提供个体工具以校正这些参数,这些工具都具有高度自动化,可将其调整到最佳性能。 因此,PMB 能够大大缩减周转时间,但同时保持经过专家校准的模型的高精度标准。

Proteus 流程工具 (PRT)
Proteus 流程工具代表一系列不同的实用工具,可提高 PWB 在某些特殊应用中的效率。

Proteus 流程调整器模块 (RTM)
Proteus 流程调整器模块是非常强大的工具,可优化 OPC 流程参数,最小化 CD 变化,或优化收敛性或循环数量设置。 RTM 提供流程的"按钮式"优化,以及调整和测评任务的全面定制,后者也可分配到多个处理器上进行。

Sentaurus 光刻技术接口
PWB 可将 Sentaurus 光刻技术 (S-Litho) 无缝集成到其以版图为中心的环境中。 严格仿真可以确保精确可靠的光刻工艺性能预测,也可实现版图修改。 其生成的结果(如光刻胶轮廓等)可与版图信息一同显示。 三维光刻胶轮廓和工艺窗口参数即可确定,并且光刻胶轮廓组可用于直接在 PWB 中展示相应的结果。

PWB 中的 S-Litho 光刻胶校准器 (SRC) 将设计前端推向 S-Litho 的校准工具。 它不仅用于展示相关的版图组件(如验证模快),还可用于监控和浏览校准过程,以及验证结果模型。

Proteus 错误分析模块
使用 Proteus 错误分析模块 (PEAM),可检查和分析光刻工艺的错误。 PEAM 可提供直观且功能丰富的 GUI 环境,轻松定位错误位置,查看关于结果的柱状图、统计摘要和柏桑 (Bossung) 图分析。 在这些位置可以对错误进行排序、筛选、分类、绘图,并可利用 ProGen 紧凑模型或 S-Litho 严格仿真进行光刻模拟。

Proteus MetroKit
Proteus MetroKit 是一个工具集,用于促进并自动化使用计量工具的接口工艺,从而最小化工具的故障时间并最大化工程效率。 该产品是 PWB 的升级选项。

要获取更多信息,请联系您当地的销售代表或发送电子邮件至 manufacturing@synopsys.com