MDPは、IC、MEMS、TFT-LCD、TFH、フォトニクス、バイオチップなどの製品のパターンの生成と製造に使用する複雑な設計データを電子ビームおよびレーザー機器向けのマシン語命令に変換する、拡張性と柔軟性に優れたソフトウェア・アプリケーションです。
MDPは、実質的に世界中の全てのフォトマスク製造施設に導入されており、マスク製造、検査、測長、およびウェハーへの直描におけるデファクト・スタンダードとなっています。
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最適化されたEUV OPCフローにより、最先端ノードの厳しい要件に対応
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