TCAD 

促进创新的工艺和器件模拟工具  

TCAD 是指利用计算机模拟技术,开发及优化半导体器件及其加工技术。 Synopsys TCAD 提供了全面的产品套件,包括行业领先的工艺器件模拟工具、及管理模拟任务和分析模拟结果的强大 GUI 驱动模拟环境。 TCAD 工艺及器件模拟工具支持各类器件的应用,如 CMOS、功率、存储器、图像传感器、太阳能电池及模拟/RF 器件。 此外,Synopsys TCAD 还提供互连建模和提取工具,提供优化芯片性能所需的重要寄生参数信息。

 

Sentaurus Process
用于开发及优化硅工艺技术的先进 1D、2D 和 3D 工艺模拟器


Taurus TSUPREM-4
用于开发及优化硅工艺技术的 1D 和 2D 工艺模拟器


Sentaurus Topography
2D 和 3D 模拟器基于物理模型用于模拟淀积、蚀刻、旋涂式薄膜、回流和 CMP 等工艺步骤


Sentaurus Device
用于基于硅及化合物半导体器件的电学、热学和光学特性的先进多维 (1D/2D/3D) 器件模拟器


Taurus Medici
对半导体器件的电学、热学和光学特性进行模拟的 2D 器件模拟器


Raphael
用于优化多级互连结构及小型电路单元的芯片寄生效应的 2D 和 3D 电阻、电容及电感提取工具


Sentaurus Interconnect
采用设计数据库和工艺流程模拟 3D 互连应力及可靠性

  • 框架
  • 用于管理及图形显示 TCAD 模拟的环境more

 
包括用于 TCAD 项目管理和图形显示的分析工具,如 Sentaurus Workbench、Advanced Workbench 和 Workbench Visualization


 
具有先进几何建模能力的灵活 2D 及 3D 器件结构编辑器,可生成 TCAD 模拟结构


 
使用 TCAD 工具优化工艺和器件,利用模拟的方式发现和解决技术研发和生产过程中的问题

TCAD 是指利用计算机模拟技术,开发及优化半导体器件及其加工技术。 Synopsys TCAD 软件计算基本的物理偏微分方程式,如扩散和运输方程式,以便对半导体器件的结构及电学特性进行模拟。 该基于完整的物理模型的模拟方式保证 TCAD 模拟在很大技术范围里的预测精确度。 因此,在开发新型半导体器件及其电学特性时,TCAD 模拟方法用于减少高成本且耗时的晶圆测试。

所有领先的半导体公司在整个技术开发周期均使用了 Synopsys TCAD 工具。 在技术开发的早期阶段,TCAD 工具允许工程师探索产品设计的替代方案,如设计衬底以增强沟道迁移率,并在试验数据获取困难的情况下仍满足性能目标。 在工艺集成阶段,工程师可使用 Synopsys TCAD 工具允许工程师模拟分组实验,如试验设计 (DOE) 以全面了解工艺特征并优化工艺,从而减少在实际晶圆上的试验运行以节省时间和成本。 在大批量生产阶段,TCAD 工具提供高级工艺控制机制,因此可提高参数成品率。

TCAD 解决方案包括:

  • 太阳能电池模拟
    Sentaurus TCAD 模拟工具可以使得用户透彻掌握影响太阳能电池性能的内部物理机制,从而提高效率并降低生产成本。
  1. 探索新的器件结构,以选择可行的工艺和器件开发途径。
  2. 使用 TCAD 充分探索工艺参数窗口,同时减少实验晶圆数量及开发周期,从而优化工艺模块和集成。
  3. 应用 TCAD 来获取和分析工艺变化对器件性能的影响,并提高工艺能力、稳定性和产量。