晶圆工程解决方案 

晶圆制造更智能化,以加快创新 

高性能,低功耗,小面积的要求,让芯片设计越来越复杂,芯片设计和晶圆制造之间的相互要求也日益苛刻。设计端Synopsys 旗下 Galaxy™ 设计平台、 Discovery™ 验证平台,同时结合制造端晶圆工程解决方案,包括掩模版制作和数据准备,光刻工艺的仿真与验证,以及制造良品率的控制和管理,我们助力您的设计在当下最先进的工艺节点,10nm及以下成功流片和生产。

  • 工具
 

CATS
尽量降低周转时间同时提高当今高端光罩的质量
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CATS SmartMRC
提供最高的吞吐量来进行光罩规则检查和模式匹配。支持在晶圆厂早期阶段的MRC和在光罩厂最后阶段的MRC
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Proteus
全面的芯片光罩综合产品(OPC、MBAF、ProGenPLUS)
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Proteus ILT
针对光学邻近效应的高级修正
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Proteus LRC
通过工艺窗口进行全芯片验证
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Proteus MetroKit
高效的计量接口
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Proteus Workbench
用于OPC 开发和优化的 Cockpit 工具
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Sentaurus 光刻工艺
光刻工艺的预测建模
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IC WorkBench Plus
高速可视化布局和光刻分析
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IC WorkBench Edit/View Plus
高速可视化布局
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  • TCAD
  • 促进创新的工艺和器件模拟工具more

工艺模拟
用于模拟半导体加工工艺的工具


器件模拟
工具用于模拟半导体器件性能


互连模拟
用于互连的电学、应力和可靠性分析的工具


框架
用于管理及图形显示 TCAD 模拟的环境


器件结构编辑器
用于创建 TCAD 模拟的器件几何结构的工具


校准和服务
校准及咨询服务用以优化 TCAD 的应用


Yield Explorer
针对产品工程良率管理的设计中心
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Odyssey
针对晶圆制造良率管理的生产中心


良率管理
可定制的良率管理系统
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Avalon
计算机辅助设计(CAD)导航,是指失效分析,设计调试和低良品率分析。Avalon是Camelot的下一代产品。
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SysNav
针对 PCB、多芯片模块和 Die 重叠应用的 CAD 导航