光罩综合和数据准 

实现制造创新 

光罩综合由各种光刻图形工具组成,即可用于开发也可批量使用模型。Proteus的系列工具为执行全芯片光学邻近修正,反向光刻图形技术(ILT),工艺流程检验提供了全面的强大环境,并可对已修正的集成电路版图图形加以分析。对于开发使用模型,Proteus 和 Sentaurus Lithography紧密结合以提供最高精度和可预测性,从而交付更快上市时间的结果。Synopsys的光罩综合工具历经行业二十数年的生产考验,是顶尖 IDM 和晶圆厂的首选工具。

  • 工具
 
  • Proteus
  • 全芯片光罩综合产品(OPC、MBAF、ProGenPLUS)more

 
Proteus 提供全面的启用管道的光罩综合工具集,该工具集可提供市场上最低的设计至光罩流拥有成本。
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针对光学邻近效应的高级修正
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Proteus LRC 是 Synopsys 的下一代 OPC 验证工具,能在 Proteus 管道技术范围之内通过工艺窗口针对全芯片光罩验证进行快速准确的热点检测
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Proteus MetroKit 是一个工具集,用于促进并自动化使用计量工具的接口工艺,从而最小化工具的故障时间并最大化工程效率。
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Proteus WorkBench 提供单独的工具环境,可促进构建模型、调整全芯片 OPC 的修正流程以及分析对修正和未修正集成电路版图模式的邻近效应。
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Sentaurus 光刻工艺代表半导体设备制造工艺开发和优化的先进建模技术,涵盖光学、液浸、EUV 以及电子束光刻等广泛应用。
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IC WorkBench Plus (ICWB+) 是具有 GDSII/OASIS 查看和编辑功能以及高速光刻仿真和分析功能的强大的分层版图可视化和分析工具。
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一种强大的、分层版图可视化和分析工具,可查看和编辑从小 IP 模块至全芯片数据库的 GDSII 和 OASIS 版图。
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