集成电路设计(简称 IC 设计)是电子工程这一宏大知识体系的一部分。在电子工程学科中,存在一个被称为电路设计的过程。电路设计的目的是组合一组相互连接的电路元件,以实现特定的目标功能。例如,实现数字的相加或相乘就是最简单的例子;再比如,开发能够执行计算机指令以完成复杂任务的微处理器。
此过程中使用的电路元件始于基础构建模块,例如晶体管、电阻器、电容器和导线。这些元件组合起来可形成逻辑门或精密放大器等更复杂的功能模块,然后进一步组合成加法器和乘法器等更高级的功能。这一过程不断迭代演进,从而提供了日益复杂的电路构建模块。
电路设计利用分立的预制元件来构建电路。但在 IC 设计中,有一个重要的区别:这里的电路元件由微型化组件制成,并通过光刻工艺在硅衬底上实现。光刻工艺在硅衬底上创建各种几何图形,从而改变该图形所定义区域的电气特性。当这些区域组合并相互叠加时,便创建出了基本的电路元件。
因此,IC 设计包含两个不同的过程。首先,组合电路元件以实现目标功能;其次,必须在硅衬底上组装和互连实现这些电路元件的各种几何图形。第一个过程通常称为逻辑设计或电路设计,第二个过程称为物理设计。根据 IC 处理的信号类型,采用数字或模拟设计方法。对于模拟/混合信号 (AMS) 设计,则需同时使用这两种方法。此外,各种电路元件如何满足设计要求也至关重要。当必须修改电路元件以达成设计要求时,则会采用全定制设计方法。
IC 设计过程可以看作是一系列分层分解的步骤。将高级要求细化为更多细节,其目标是在硅晶圆上实现能够准确执行目标功能的电路。构成 IC 设计流程的主要步骤包括:
当人们考虑先进半导体技术时,IC 设计流程的另一个方面变得十分重要。在先进制造技术中,物理效应和工艺变异性起着关键作用。例如,连接电路元件的导线的物理电阻会导致工作电压发生显著变化,从而影响整体电路性能。制造过程的变异性也可能产生意外的电路行为。为了解决这些问题,必须在设计流程的早期对布线延迟和工艺变异等后期效应进行建模和考虑,以确保将这些效应计算在内。
此外,设计的某些方面(例如将如何进行测试以及将消耗多少功率)需要在流程的每个步骤中进行建模和精细化调整。这些事项过于复杂,无法在设计结束时才去处理。这种“前瞻性(looking ahead)”的过程被称为左移 (Shift-Left) 方法,它需要一套非常复杂的设计工具和设计流来给予支持。
| 步骤 | 目的/主要活动 |
| 架构设计 | 定义 IC 的功能、性能、功耗和成本目标;确定“需要做什么”。 |
| 逻辑/电路设计 | 组装宏块;使用逻辑综合与仿真;开始定义“如何实现”。 |
| 物理设计 | 物理设计 |
| 物理验证 | 物理验证 |
| 签核 | 签核 |
执行最终检查(时序、功耗、可制造性);确保设计准备好进行流片。
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下图总结了该平台的各个要素。
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