集成电路设计(简称IC设计)是电子工程这一更广泛知识体系的一部分。在电子工程学科中,有一个被称为电路设计的过程。电路设计的目标是将一组相互连接的电路元件组合起来,使其执行特定的目标功能。进行加法或乘法运算就是一個简单的例子。微处理器中的指令集(开发 ),它通过执行计算机指令来完成复杂任务,则是另一个例子。
该过程中使用的电路元件始于晶体管、电阻、电容和导线等基本构建模块。这些元件组合在一起,形成逻辑门或精密放大器等更复杂的功能,随后这些功能又进一步组合,形成加法器和乘法器等更复杂的电路。这一过程不断自我延伸,从而使得越来越复杂的电路构建模块得以实现。
电路设计利用离散的、预先制造好的元件来构成电路。而在集成电路(IC)设计中,则存在一个重要区别。在此,电路元件由微型化组件构成,这些组件通过一种称为光刻的技术,被实现于硅片基底 上。光刻工艺会在硅片基底 上形成各种几何形状,这些形状所界定的区域的电学特性会发生改变。当这些区域相互组合并叠加时,便形成了基本的电路元件。
因此,集成电路(IC)设计由两个截然不同的过程组成。首先,将电路元件组合起来以实现目标函数。其次,必须将实现这些电路元件的各种几何形状组装并互连在硅片上基底 。第一个过程通常称为逻辑设计或电路设计,第二个过程称为物理设计。根据集成电路所处理的信号类型,会采用数字设计方法或模拟设计方法。在混合信号(模拟/混合信号 ,简称AMS)设计中,则同时采用这两种设计方法。 此外,各种电路元件如何满足设计要求也至关重要。当必须修改电路元件以满足设计要求时,则采用全定制设计方法。
集成电路(IC)的设计过程可以视为一系列分层分解步骤。将高层需求分解为更详细的内容,目的是在硅片上实现一个能够忠实执行目标函数的电路。构成集成电路设计流程的主要步骤包括:
在探讨先进半导体技术时,集成电路设计流程中的另一个方面变得尤为重要。在先进制造技术中,物理效应和工艺变异性起着重要作用。例如,连接电路元件的导线的物理电阻可能会导致工作电压发生显著变化,从而影响整个电路的性能。 制造工艺的变异性也可能导致电路出现意想不到的行为。为应对这些问题,必须在设计过程的早期阶段对布线延迟和工艺变异性 等后期效应进行建模和考量,以确保这些效应得到充分考虑。
此外,设计的某些方面(例如如何进行测试以及功耗是多少)需要在流程的每个阶段进行建模和优化。这些内容过于复杂,无法在设计结束时才处理。这种“前瞻性”的过程被称为“左移”方法,需要一套非常先进的设计工具和设计流程来提供支持。
| 步骤 | 目的/主要活动 |
| 建筑设计 | 明确集成电路的功能、性能、功耗和成本目标;确定“需要什么”。 |
| 逻辑/电路设计 | 组装宏块;使用逻辑综合和仿真;开始定义“如何”实现。 |
| 物理设计 | 设计物理布局;放置和布线元器件;最终确定芯片的“制造方式”。 |
| 物理验证 | 拟合模型;验证信号完整性 及规则符合性 。 |
| 签核 | 进行最终检查(时序、功耗、可制造性);确保设计已准备好提交至fab 。 |
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下图总结了该平台的组成部分。
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平台工具包括: