ニュースリリース - 2006年4月17日

ソニー、シノプシスのPSMテクノロジを高性能システムLSIの生産に採用

PSMテクノロジにより、高性能な製品開発のための歩留まりを向上

2006年4月17日 カリフォルニア州マウンテンビュー発 - 半導体設計ツールの世界的リーダーであるシノプシス（Synopsys, Inc.、Nasdaq上場コード:SNPS）は本日、ソニー株式会社がシノプシスのAA-PSM (Alternating Aperture Phase Shift Mask) 技術を用いて高性能チップの製造性を向上したと発表した。シノプシスの包括的なDesign for Manufacturing (DFM) ソリューションのキー・テクノロジであるこのAA-PSM技術により、リソグラフィー解像度の向上、歩留まりの向上、リーク電流の削減、およびチップ性能の向上が可能となり、その結果製造性を向上することができる。

シノプシスのPSMテクノロジは、130nmプロセスでの製造で既にその有効性が実証されており、現在複数の半導体企業でLSI製造に用いられている唯一の強力な商用フェイズ・シフト技術である。このPSMテクノロジにより、設計者は65ｎｍ以降のプロセスで厳密性が要求されるCD (Critical Dimension=線幅) 制御とシリコン上に生成されるトランジスタ･サイズの制御、およびリソグラフィー解像度の向上が可能となる。この高精度なCD制御により、チップ性能が向上し、高い歩留まりを実現することが可能となり、それによって一つのウェハから設計仕様を満たしたチップをより多く生産できるようになる。

シノプシスのDFMマーケティング担当副社長であるAnantha Sethuramanは次のように述べている。「シノプシスの技術が、ソニー様の業界最先端のプロセス・ノードの量産立ち上げに用いられるという事実は、シノプシスのPSMテクノロジが、製造環境で重要な役割を果たしていることを示しています。今回のソニー様による弊社PSMテクノロジの採用により、高歩留まり設計において包括的なDFMソリューションを提供するシノプシスのリーダーシップは確固たるものになったと言えるでしょう。」

シノプシスのDFMソリューションについて
シノプシスは、RTL設計からマスク製造までサポートできる業界で最も包括的なDFMソリューションを提供している。シノプシスのDFMツール・ファミリーは、製造性確保、歩留まり向上といった重要な課題を解決するソフトウェア製品群である。シノプシスのDFMツール・ファミリーは、フィジカル検証ツールHercules、OPCツールProteus、マスクデータ・プレパレーションに用いるCATS、リソグラフィー検証ツールSiVL、特許技術のPSM(Phase Shift Mask)テクノロジ、およびプロセス・デバイス・シミュレーションのためのTCADツール群から構成される。製造実証済みのシノプシスのPSMテクノロジにより、半導体ベンダ各社は準波長領域においても、既存の光リソグラフィー装置を用いつつ信頼性と費用対効果の高いICを製造することができる。この技術により、65nmプロセス･ノードで使われる30nmトランジスタより遥かに微細な9nmトランジスタでも、248nmのリソグラフィー装置を使用して製造できるようになる。また、シノプシスのManufacturing Yield Management (MYM)ソリューションは、製造工程と直結することにより、ランダム欠陥、システマティック欠陥およびパラメトリック欠陥を削減するために必要な歩留まりデータと解析機能へのリアルタイム・アクセスを可能にする。これにより、設計コンセプト構築から製造までの期間を大幅に短縮し、次世代半導体の設計/製造を早めることができる。シノプシスのDFMソリューションは、65nm以降の設計で目標とする歩留まりを達成するために、設計フロー全体を通して設計と製造データをインテリジェントに活用するシステマティックな開発手法を提供している。

シノプシスについて
Synopsys, Inc. は、IC設計向け電子設計自動化ソフトウェア（EDAツール）の世界的リーダである。複雑なシステムオンチップ開発を実現する、最先端技術を用いたIC設計プラットフォームと検証プラットフォーム、および製造ソフトウェアを世界中のエレクトロニクス市場向けに提供している。また、顧客の設計プロセスを簡素化し、その製品開発期間を短縮するために、設計資産（IP）やデザイン・コンサルティング・サービスを提供している。カリフォルニア州マウンテンビューに本社を置き、事業所は北米、ヨーロッパ、日本、アジアなど60ヶ所。詳細な情報は、http://www.synopsys.co.jp より入手可能。