積體電路設計(簡稱 IC 設計)是電子工程這門廣義學科的一部分。在電子工程領域中,有一項稱為「電路設計」的過程。電路設計的目標是將一組相互連接的電路元件組合起來,以實現特定的目標功能。例如,進行加法或乘法運算就是一個簡單的例子;而開發能執行電腦指令以完成複雜任務的微處理器,則是另一個例子。
此過程中使用的電路元件,最初以電晶體、電阻、電容和導線等基本構件為基礎。這些元件經組合後,可形成邏輯閘或精密放大器等較複雜的功能,而這些功能再進一步組合,則可構成加法器與乘法器等更複雜的電路。此過程持續相互建構,最終使越來越複雜的電路構件得以問世。
電路設計是利用分立的、預先製造好的元件來構成電路。至於積體電路(IC)設計,則存在一項重要差異。在此情況下,電路元件是由微型化元件製成,並透過稱為光刻法的製程,將其實作於矽片基板 上。光刻法會在矽片基板 上形成各種幾何形狀,而由該形狀所界定的區域,其電氣特性會隨之改變。當這些區域相互結合並疊加時,便形成了基本的電路元件。
因此,積體電路(IC)設計包含兩個截然不同的流程。首先,將電路元件組合起來以實現目標函數;接著,必須將用以實現這些電路元件的各種幾何形狀,組裝並互連於矽晶片上基板 。第一個流程通常稱為邏輯設計或電路設計,而第二個流程則稱為實體設計 。根據積體電路所處理的訊號類型,會採用數位或類比的方法。 在類比/混合訊號(AMS)設計的情況下,會同時採用這兩種方法。此外,各種電路元件如何符合設計要求也是關鍵因素。當必須修改電路元件以滿足設計要求時,則會採用全客製化設計方法。
積體電路(IC)的設計過程可視為一系列分層分解的步驟。高階需求會被分解為更詳細的內容,其目標是在矽晶圓上實現一個能忠實執行目標函數的電路。構成積體電路設計流程的主要步驟包括:
當探討先進半導體技術時,積體電路(IC)設計流程中還有另一個重要面向。在先進製造技術中,物理效應與製程變異性扮演著關鍵角色。例如,連接電路元件的導線所具有的物理電阻,可能會導致工作電壓產生顯著變化,進而影響整體電路性能。 製造製程的變異性也可能導致電路出現意料之外的行為。為解決這些問題,必須在設計流程的早期階段就對佈線延遲和製程變異等後期效應進行建模與考量,以確保這些效應能被充分納入考量。
此外,設計中的某些面向——例如測試方式及功耗——需要在流程的每個階段進行建模與優化。這些事項過於複雜,無法留待設計階段結束時才處理。這種「前瞻性」的流程稱為「左移(Shift-Left)」方法,需要一套非常先進的設計工具與設計流程來提供支援。
| 步驟 | 目的/主要活動 |
| 建築設計 | 定義積體電路的功能、效能、功耗及成本目標;釐清所需「內容」。 |
| 邏輯/電路設計 | 組裝巨塊;運用邏輯合成與模擬;開始定義「如何」進行實作。 |
| 實體設計 | 建立實體佈局;佈局與繞線 元件;確定晶片的「製造方式」。 |
| 實體驗證 | 建模製造效應;驗證訊號完整性 及法規遵循狀況。 |
| 簽核 | 進行最終檢查(時序、功耗、可製造性);確保設計已準備好送交晶圓廠量產。 |
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