레이아웃 대 회로도 (LVS) 검사는 레이아웃에서 추출된 넷리스트를 원본 회로도 넷리스트와 비교하여 두 넷리스트가 일치하는지 확인합니다. 회로도의 모든 소자와 네트가 레이아웃의 소자와 네트와 일치할 경우, 이 비교 검사는 ‘클린(clean)’으로 간주됩니다. 선택적으로, 소자 속성을 비교하여 특정 허용 오차 범위 내에서 일치하는지 확인할 수도 있습니다. 속성을 비교할 경우, ‘클린’ 비교 결과를 얻으려면 모든 속성이 일치해야 합니다.
LVS 흐름은 두 가지 주요 프로세스로 구성됩니다. 흐름의 첫 번째 프로세스는 ‘추출(extraction)’으로, 레이아웃 데이터베이스 내의 레이어를 분석하여 모든 소자와 네트를 추출합니다. 흐름의 두 번째 프로세스는 ‘비교(compare)’로, 여기서 소자와 네트에 대한 실제 비교가 이루어집니다.
LVS 런셋에는 추출과 넷리스트 비교를 모두 제어하는 일련의 함수 호출이 포함되어 있습니다.
LVS 오류는 크게 두 가지 범주로 분류할 수 있습니다:
추출 오류
오류 비교
Synopsys’ ‘ IC Validator ’ 물리적 검증은 DRC(설계 규칙 검사 ), LVS( 레이아웃 대 회로도 ), 필(fill) 기능 등을 포함하는 포괄적인 사인오프 솔루션입니다.