华润上华科技有限公司采用Synopsys的Proteus OPC平台

完整的平台和强大的支持使CSMC能够更快地提供亚180纳米晶圆代工服务

美国加利福尼亚州山景城—2016年2月22日

亮点:

  • Synopsys的Proteus OPC平台为晶圆代工企业提供了最佳的性能
  • Synopsys已获得亚180纳米技术认证,实现了更快的上市时间
  • CSMC的亚180纳米流程将支持中国无晶圆加工厂半导体公司不断增长的需求

新思科技(Synopsys,Inc.,纳斯股票代码:SNPS)今日宣布:其ProteusTM 光学临近效应修正(OPC)平台以完整的平台和卓越的本地支持,已被华润上华科技有限公司(CSMC)采用;CSMC是一家总部位于中国的晶圆代工厂,可提供逻辑、模拟和混合信号流程的晶圆代工服务。对于CSMC最新的亚180纳米技术,Synopsys的Proteus是首要的OPC解决方案。此外,通过使用Proteus的高度可扩展平台,CSMC将从可控制上市时间的能力中获益。

“为了满足快速增长的中国半导体市场的需求,以一种及时和可靠的方式提供各种新的工艺技术对于CSMC至关重要,”CSMC设计服务中心总监Wesley Chang表示。“通过选择完整的Proteus平台,以及Synopsys OPC本地化团队的强大支持,已帮助我们在一个紧凑的项目周期中交付了153纳米技术。”

华润上华科技有限公司(CSMC)隶属于华润微电子有限公司,公司在中国大陆开创了开放式晶圆代工经营模式的先河。CSMC目前提供多样化的、可适应于各种CMOS特殊工艺的代工服务,由其位于中国的6英寸和8英寸晶圆代工设施提供支持。因为中国是半导体行业中增长最快速的新兴市场之一,CSMC也在为中国无晶圆厂半导体公司提供越来越多的支持。

Proteus平台包括传统的光学邻近效应修正(OPC)、光刻规则检查(LRC)和规则库辅助功能(RBAF)。Proteus平台采用流水线架构并具有可扩展到数千个处理核的高度可扩展性,从而带来了高效的上市时间控制能力。Proteus也可与Synopsys的CATS®掩膜直写和掩膜检查产品实现流水线对接,可为掩膜数据准备(MDC)步骤带来接近于零的管理费用。Proteus和CATS工具为从GDS到掩膜提供了最快捷的路径,同时降低了持有成本。

“Synopsys已经大量投资于我们的Proteus OPC平台和中国的支持团队,以满足像CSMC这样的晶圆代工厂的需求,”Synopsys资深副总裁兼硅工程事业部总经理柯复华(Howard Ko)说道。“我们非常高兴在Synopsys的帮助下,CSMC能够加速其153纳米技术的交付,我们期望在未来的工艺技术上能够继续与CSMC合作。”

关于Synopsys

新思科技(Synopsys, Inc.,纳斯达克股票市场代码:SNPS)是各家创新公司在从芯片(Silicon)到软件(Software™)等多个领域内的合作伙伴,这些公司开发了我们每天所依赖的电子产品和软件应用。作为世界第16大软件公司,Synopsys长期以来一直是电子设计自动化(EDA)和半导体IP领域内的全球领导者,其在软件质量和安全解决方案领域的领导力也正在提升。无论您是创造先进半导体产品的SoC设计人员,还是编写需要最高质量和安全性的应用软件开发人员,Synopsys都有开发各种创新的、高质量的和安全的产品而需要的解决方案。更多信息,请访问www.synopsys.com。

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鲍志伟 

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