TCAD

Приборно-технологическое моделирование (TCAD)

Моделирование полупроводникового процесса, работы устройства и характеризации межсоединений для разработки и создания технологий.

Инструменты моделирования процессов и устройств для ускорения инноваций

Приборно-технологическое моделирование (TCAD) использует компьютерное моделирование для разработки и оптимизации технологий производства полупроводников и устройств. Synopsys TCAD предлагает полный набор продуктов, который включает в себя ведущие в отрасли инструменты для моделирования процессов и устройств, а также мощную среду моделирования с использованием графического интерфейса для управления задачами моделирования и анализа его результатов. Инструменты TCAD и средства моделирования устройств поддерживают широкий спектр приложений, таких как КМОП, силовые полупроводники, память, датчики распознавания изображения, солнечные панели и аналоговые/радиочастотные устройства. Кроме того, Synopsys TCAD предоставляет инструменты для моделирования и экстракции межсоединений, предоставляя критическую паразитную информацию для оптимизации производительности чипов.. 

Основные преимущества

  1. Исследование новых структур устройств для выбора подходящих процессов производства и путей разработки устройств.
  2. Использование TCAD для оптимизации производства и интеграции модулей, благодаря изучению всего пространства параметров процесса, уменьшая количество экспериментальных пластин и циклов разработки.
  3. Применение TCAD для сбора и анализа влияния изменения процесса на производительность устройства, а также для увеличения возможностей процесса, надежности и выхода годных.

Обзор

Приборно-технологическое моделирование (TCAD) использует компьютерное моделирование для разработки и оптимизации технологии производства полупроводников и устройств. Программное обеспечение Synopsys TCAD решает фундаментальные физические уравнения с частными производными, такие как уравнения диффузии и транспорта, для моделирования структурных свойств и электрического поведения полупроводниковых приборов. Этот глубокий физический подход дает прогностическую точность моделирования TCAD для широкого спектра технологий. Поэтому моделирование TCAD используется для уменьшения количества дорогостоящих и трудоемких пробных пластин при разработке и характеризации нового полупроводникового устройства или технологии.

Инструменты Synopsys TCAD используются всеми ведущими полупроводниковыми компаниями в течение всего цикла разработки технологий. На раннем этапе разработки технологий инструменты TCAD позволяют инженерам изучать альтернативы разработки проекта, такие как разработка подложки для повышения мобильности каналов и достижение целей производительности, даже когда данные экспериментов еще недоступны. На этапе интеграции процесса инструменты Synopsys TCAD позволяют инженерам выполнять моделирование отдельных частей проекта, такие как Design of Experiment (DOE), чтобы всесторонне охарактеризовать и оптимизировать процесс, что экономит время и деньги за счет сокращения количества экспериментальных прогонов в кремнии. Когда процесс внедряется в производство, инструменты TCAD обеспечивают механизм для расширенного контроля процесса во время массового производства, тем самым улучшая параметрический выход годных.