Proteus LRC 

プロセス・ウィンドウにおけるフルチップの検証 

概要
Proteus LRC(リソグラフィ・ルール・チェック)は、プロセス・ウィンドウにおけるホットスポットを高速かつ高精度に検出し、スケーラビリティに優れたProteusパイプライン・テクノロジでフルチップのマスク検証を行うシノプシスの次世代ポストOPC(光近接効果補正)検証ツールです。 問題のある領域をすばやく特定することで開発サイクルの早期にロバストな設計とOPC手法を実現し、製造フローの後工程でのデバイス故障のリスクを軽減します。 Proteus LRCを利用することで、新しいテクノロジの開発期間が短縮され、既存のフローでの歩留りが向上します。

リソグラフィ・プロセスが既存のツール群の解像限界に近付くと、プロセス・ウィンドウにおけるばらつきが増加し、設計ノードの微細化に伴って許容される誤差が小さくなるため、デバイス故障が発生しやすくなります。 Proteus LRCは、プロセス・ウィンドウにおけるホットスポット、二層の間隔とオーバーレイ、EPE、CDの制御に対する高速で包括的なチェック機能を提供します。 Proteus LRCの精密なチェックおよび解析機能により、設計を製造工程に投入する前に潜在的な歩留り低下の原因を発見し、マスクの再設計にかかる手間とコストを削減できます。

Proteus LRCは、プロセス・ウィンドウ対応のエラー検出と量産向けのモデルにより信頼性の高い包括的なプロセス検証ソリューションを提供し、業界をリードする高精度を実現します。 カスタマイズ性の高いインターフェイスは比類ない柔軟性を提供し、ユーザーはIPを変更せずに固有のアルゴリズムを採用できます。 Proteusパイプライン・テクノロジに完全に統合されたアプリケーションは標準的なx86コア・プロセッサで動作し、総所有コストを最小化します。高度なエラー解析機能は、解析結果の確認と処理を効率的に行う優れたツールを提供します。

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業界をリードする高精度
Proteus OPCで使用する量産向けのモデルをProteus LRCでも使用できます。 これらのモデルは、高精度で予測可能なモデル構築のために物理の第一原理に基づいています。 これによりモデルの安定性が確保され、結果がモデル・キャリブレーション・データの範囲を超えた場合でも高精度を実現します。 レジスト形状とトポグラフィの影響をさらに詳細に検討する必要がある場合は、組込み可能なSentaurus Lithographyテクノロジにより、設計の重要箇所において精密な第一原理モデルを利用できます。

プロセス・ウィンドウ対応のエラー検出と比類なき柔軟性
Proteus LRCはフルチップ対応の高度なフィールドベース・モデルを提供します。
  • すべての検査にプロセス・ウィンドウ対応のアルゴリズムを採用することによって、設計の全箇所での、プロセス・ウィンドウにおけるワーストエラーを検出する、最適な性能と統合データ解析を実現します。
  • マルチマスク・リソグラフィ・プロセス特有のプロセス・エラー向けに最適化されたDPT固有のチェックは、ロバストなチェック、容易なインプリメンテーション、統合された結果表示機能を提供します。
  • 組込み可能なSentaurus Lithographyテクノロジにより、精密な第一原理モデルによるレジスト形状とトポグラフィの影響の解析が可能です。
  • OPCとProteus LRC間のプラットフォームの標準化により統一された構文で、ツール間の互換性が保たれます。
  • プログラム性高いインターフェイスが高度な柔軟性を提供し、エンドユーザーが固有のチェック機能とアルゴリズムを組み込むことによって、ユーザーの大切なIPを保護します。


図1: IC WorkBenchのProteusエラー解析モジュール

高度なエラー解析
図1に示すように、シノプシスのIC WorkBench PlusおよびProteus WorkBenchに組み込まれているProteusエラー解析モジュールは、エラー検出、ヒストグラムの表示、統計サマリ、Bossungプロット、3Dレジスト形状およびトポグラフィ解析を行うための直観的で機能が豊富なGUI環境を提供します。 業界標準のデータベース形式を採用した効率的で柔軟性の高い環境で、カスタム・アプリケーション向けの結果の表示、クエリ、集計機能を利用できます。
  • プロセス・ウィンドウにおいて、周辺パタンに基づいてエラーを分類した簡潔で効率的なエラー表示機能を提供します。
  • チェック対象のすべてのパラメータに関するフルチップ統計解析
  • ウェーハおよびマスク検査ツールへのデータ受渡し


図2: Proteusパイプライン・テクノロジ

総所有コストの最小化
図2に示すように、Proteus LRCはProteusパイプライン・テクノロジを利用して標準的なハードウェアで優れた性能とスケーラビリティを発揮し、開発期間の短縮と総所有コストの最小化を実現します。 マスク合成フロー全体を1つのジョブデックで実行し、フローの全段階を同時処理することにより、CPU使用効率を最大化します。