Taurus TSUPREM-4 

高级 1D 和 2D 工艺仿真器 

概览
Taurus TSUPREM-4 是用于开发半导体工艺技术并优化其性能的高级 1D 和 2D 工艺仿真器。 Taurus TSUPREM-4 配有一套全面的高级工艺模型,可仿真半导体器件制造工艺步骤,减少高成本硅片投入完成的试验。 此外,Taurus TSUPREM-4 还具备多种应力建模能力,可优化应力来改善器件性能。

优势
  • 开发成本低廉而技术尖端的 CMOS、双极和功率器件制造工艺
  • 通过精准仿真离子注入、扩散、氧化、硅化、外延生长、蚀刻和沉淀等工艺步骤,预测 1D 和 2D 器件结构特性,降低试验次数和技术开发时间
  • 分析所有层因热氧化、硅化反应、热失配、蚀刻、淀积和应力释放而产生的应力过程记录
  • 研究杂质扩散,包括氧化增强扩散 (OED)、瞬态增强扩散 (TED)、间隙缺陷聚合、杂质激活和剂量损失